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靶材是什么?

  靶材是什么?

  所謂“靶材”(target)是指應用于物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,簡稱PVD)過程中的一種“鍍膜材料”(或稱“源材”)。


  “靶材”通過“真空蒸發 ”、“磁控濺射”、“多弧離子鍍”等各種物理氣相沉積方式。在適當工藝條件(例如,真空環境)下使“靶材”蒸發,并使被蒸發物質與氣體都發生“電離”。

  利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物“沉積”在工件上,形成各種具有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的薄膜“鍍層”。

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